EQUIPO DE PLASMA EN BAJA PRESIÓN ZEPTO 4 RIE

El modelo 4 de la serie Zepto es un sólido equipo de tratamiento de superficies por plasma en baja presión diseñado para abordar trabajos de investigación en los que sea necesario realizar tratamientos en muestras  mediante la técnica RIE (Reactive Ion Etching).

Con cámara con un diámetro de 190 mm y dos canales de gas de proceso es ideal en los procesos RIE de etching, plasma cleaning y activación (funcionalización) de superficies. Debido al compromiso con el control de gastos desde su etapa de diseño, los modelos RIE de la serie Zepto se han ido convirtiendo en un estándar con instalaciones en todo el mundo,

El control del equipo es manual con control de potencia emitida con posibilidad de equipar medidor de presión en la cámara y temporizador del proceso de forma opcional.

El generador de baja frecuencia se ha diseñado para ser muy eficaz en los procesos de limpieza y activación de superficies manteniendo un claro compromiso con el coste.

ESPECIFICACIONES EQUIPO DE PLASMA BAJA PRESIÓN Y BAJO COSTE

• Chasis
  Sobremesa
  Ancho 425 mm, Alto 310 mm, Fondo 450 mm
  
  
• Generador de plasma
  40khz, 0-100W
  Impedancia automática
  Control de potencia aplicada
  
  
• Canales de gas de proceso
  2 canales. Control por fluómetro de bola
  
  
• Cámara proceso
  Cilíndrica, fabricada en borosilicato, con tapa,
  Ø 190 mm altura 60 mm
  Volumen aprox: 1litro
  
  
• Control del sistema
  Manual
  
  
• OPCIONALES NO INCLUIDOS
  Medidor de presión de cámara pirani
  Control de tiempo de proceso
  Bomba de vacío